设备名称：无掩膜紫外光刻机

品牌：TUOTUO TECHNOLOGY

型号规格：TTT-07-UV Litho-ACAMaL

技术指标：

   1、光刻精度：至少支持两个光刻镜头；

     光刻镜头1：最小线宽≤0.8μm，工作距离≥9mm；

     光刻镜头2：最小线宽≤0.4μm，工作距离≥5mm；

  2、套刻指引：支持实时光刻图形的绿光预览功能；

 3、激光主动对焦：支持激光主动对焦；

 4、光刻镜头电动切换：支持光刻镜头电动切换；

 5、样品电动旋转：电动样品旋转台，行程≥±20°，步进精度≤0.001°；

 6、曝光波长：405nm；

 7、显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性；

 8、物镜电动切换时间：不高于300 ms；重复定位精度：优于400 nm；

 9、样品厚度：不小于10 mm；

 10、样品尺寸：不小于125 mm * 125 mm；

 11、样品吸附：支持样品吸附；

 12、设备软件：支持阵列光刻、尺寸测量、进度显示；

 13、画图软件：支持阵列画图、套刻画图；

 14、湿度控制：支持设备内部湿度控制；

 15、支持扫描式/滚动式光刻；

 16、数字微镜分辨率不小于 1920*1080，微镜尺寸不超过 7.56μm。

主要功能：掩膜版制作、光刻胶直写以及多层套刻直写等，可广泛用于微纳结构曝光、二维材料电极

的搭建、光学掩模板的制作、纳米材料加工、光电探测器、发光二极管、有机太阳能电池等诸多领域。

服务内容：600纳米精度无掩膜光刻

收费标准（拟定）：本单位175元/小时,校内350元/小时,校外529元/小时

联系人：蔡凯明，18210067858

设备存放地：逸夫科技大楼W01室