实验教室：

 科技楼东300。

实验仪器设备：

小型直流溅射仪（配机械泵）、紫外可见分光光度计、BY3000 扫描探针显微镜、双光束紫外-可见分光光度计等。

实验内容：

1、根据提供的设备和材料，制定清洗衬底的方案；

2、采用射频或直流磁控溅射仪，在清洗干净的衬底上制备金属铜薄膜和银薄膜；

3、调节原子力显微镜光路，改变扫描模式，观测不同样品的表面形貌，掌握基本图像信息提取方法；

4、运用紫外分光光度计，测量金属薄膜和 ZnO、TiO₂ 等的吸光度/透射率，分析与制备工艺之间的联系，计算半导体样品的禁带宽度。

实验图片：